ระบบสปัตเตอร์แมกนีตรอนหลายเป้าหมายในสุญญากาศสูง

การเคลือบผิวแบบหลายเป้าหมาย: รองรับการเคลือบผิวแบบเดี่ยว, แบบต่อเนื่อง หรือแบบพร้อมกัน โดยใช้เป้าหมายขนาด 3 นิ้วถึงสามเป้า เพื่อการสร้างฟิล์มที่หลากหลาย

รองรับวัสดุหลากหลาย: สามารถใช้งานได้กับวัสดุโลหะ, โลหะผสม, เซมิคอนดักเตอร์, เซรามิก และวัสดุไดอิเล็กทริก สำหรับการวิจัยและพัฒนา

การควบคุมที่ใช้งานง่าย: มีระบบควบคุม PLC พร้อมหน้าจอสัมผัส (HMI) เพื่อการทำงานแบบกึ่งอัตโนมัติ และอินเทอร์เฟซที่ใช้งานง่าย

ระบบความปลอดภัยที่แข็งแกร่ง: มีระบบแจ้งเตือนสำหรับปัญหาการขาดแคลนน้ำ, กระแสไฟฟ้าเกิน, ความผิดปกติของแรงดันไฟฟ้า และระบบล็อคความปลอดภัย

การออกแบบที่กะทัดรัด: การออกแบบแบบบูรณาการระบบควบคุม ช่วยประหยัดพื้นที่ และใช้งานง่าย