SourcingAI
Try for free
Powered by Made-in-China.com
สารตั้งต้นซิลิคอนขั้นสูงสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ - Bdeas C8h22n2si
US$5.00
200 ชิ้น
ราคาตัวอย่าง:US$5.00/บางส่วน.ขอตัวอย่างสินค้า

ข้อมูลสินค้า

การปรับแต่ง

มีอยู่

หมายเลข CAS

27804-64-4

สูตร

C8h22n2si

ไม่ใช่ ของรุ่น

C8h22n2si

EINECS

631-070-6

การรับรอง

ระยะยืด

การปกป้องสิ่งแวดล้อม

ใช่

ลักษณะภายนอก

ของเหลว

สี

สีขาว

ข้อมูลจำเพาะ

200L

เครื่องหมายการค้า

zyd

ที่มา

Shanghai

คุณสมบัติหลัก

เทคนิค ALD ที่อุณหภูมิต่ำ: เหมาะสำหรับการเคลือบฟิล์มซิลิเกตของฮาฟเนียมด้วยเทคนิคการสะสมแบบอะตอมที่อุณหภูมิต่ำ
ปรับแต่งได้ดีเยี่ยม: ช่วยให้สามารถปรับแต่งองค์ประกอบของฟิล์ม HfSiOx ได้อย่างมีประสิทธิภาพ
ใช้งานได้หลากหลาย: ใช้สำหรับการเคลือบฟิล์ม SiO2, HfO2 หรือ HfSiOx ด้วยโอโซน
ปฏิกิริยาการไฮโดรไลซิสที่รวดเร็ว: ทำปฏิกิริยาอย่างรวดเร็วกับความชื้น น้ำ และตัวทำละลายที่มีโปรตอน
ได้รับการรับรอง REACH: ผลิตภัณฑ์เป็นไปตามมาตรฐานการรับรอง REACH และมาตรฐานการปกป้องสิ่งแวดล้อม

ข้อมูลบริษัท

ผ่านรับรองประเภทของธุรกิจ: บริษัทการค้าเริ่มส่งออกเมื่อ: 2024-07-23ท่าเรือที่ใกล้ที่สุด: Shanghaiเวลาตอบสนองโดยเฉลี่ย: ≤5.25hเงื่อนไขการชำระเงิน: LC, T/T, D/Pข้อกำหนดทางการค้าระหว่างประเทศ (Incoterms): FOB, EXW, เลขประจำตัวผู้เสียภาษี, DDP

เกี่ยวกับโรงงานของเรา & ข้อมูลเบื้องต้นเกี่ยวกับธุรกิจ

ที่อยู่Shanghai, China
ทุนจดทะเบียน10,000,000 RMB
ระยะเวลาการรอระยะเวลาการรอสูงสุดในฤดูกาล: 1-3 เดือน, ระยะเวลาการรอสูงสุดนอกฤดูกาล, 1-3 เดือน

ศักยภาพการผลิตของเรา & ความเชี่ยวชาญทางเทคนิค

สินค้าหลักก๊าซเซมิคอนดักเตอร์, ก๊าซการแพทย์, ก๊าซอุตสาหกรรม, สารตั้งต้น, ก๊าซพิเศษ, ก๊าซหายาก, ก๊าซซีนอน, ก๊าซฮีเลียม, N2o

ประสบการณ์ในอุตสาหกรรมของเรา & บันทึกธุรกิจระดับโลก

ปีที่ก่อตั้ง2011-03-16
ตลาดหลักอเมริกาเหนือ, ยุโรปตะวันออก, เอเชียตะวันออกเฉียงใต้, เอเชียตะวันออก, ยุโรปตะวันตก, ตะวันออกกลาง, อเมริกาใต้, แอฟริกา

ผลิตภัณฑ์ Q&A

Q:ผลิตภัณฑ์นี้เหมาะสำหรับการใช้งานในกระบวนการ ALD ที่อุณหภูมิต่ำหรือไม่?
A:
ใช่ค่ะ ผลิตภัณฑ์นี้ได้รับการศึกษาและประเมินแล้วว่าเป็นสารตั้งต้นซิลิคอนในรูปของเหลวสำหรับกระบวนการเคลือบแบบอะตอมทีละชั้น (atomic layer deposition) ที่อุณหภูมิต่ำ
Q:สามารถเคลือบฟิล์มชนิดใดได้บ้างโดยใช้สารตั้งต้นนี้?
A:
เหมาะสำหรับการเคลือบฟิล์ม SiO2, HfO2 หรือ HfSiOx เมื่อใช้ร่วมกับโอโซน
Q:สาร BDEAS ทำปฏิกิริยากับความชื้นอย่างไร?
A:
สารนี้ทำปฏิกิริยาอย่างรวดเร็วกับความชื้น น้ำ และตัวทำละลายที่มีโปรตอน
Q:ผลิตภัณฑ์นี้เป็นไปตามมาตรฐานด้านสิ่งแวดล้อมหรือไม่?
A:
ใช่ค่ะ ผลิตภัณฑ์นี้ได้รับการรับรอง REACH และเป็นไปตามข้อกำหนดด้านการปกป้องสิ่งแวดล้อม
Q:หมายเลข CAS ของสารตั้งต้นนี้คืออะไร?
A:
หมายเลข CAS คือ 27804-64-4

ส่งแบบสอบถาม

*ถึง:Shanghai Zhongyida New Materials Co., LtdShanghai Zhongyida New Materials Co., Ltd
*เนื้อหา:
0/4000

ซัพพลายเออร์จะส่งคำตอบไปที่ อีเมลที่คุณลงทะเบียนไว้

คุณอาจสนใจสิ่งเหล่านี้ด้วย